Эпитаксиальная пластина производится из кремниевых монокристаллов диаметром 100 и 150 мм. Эпитаксиальная пластина предназначена для использования в полупроводниковой промышленности. Эпитаксия – процесс нанесения на субстрат из монокристаллического кремния ещё одного слоя кремния, также монокристаллического.
Эпитаксиальная пластина требует крайней чистоты и высокой точности производства. Производство кремниевых пластин включает как химические, так и машиностроительные операции.
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.
1. Máje 2230
Rožnov pod Radhoštěm
756 61
Чешская республика
www.onsemi.cz
Irena Rauchmanová
ассистент генерального директора
Тел. : +420 571 753 881
Владение языками:
чешский, английский
Контактный формуляр >>
Наименование продукта: Эпитаксиальная пластина | ||
Объём продукции: по договорённости | Mинимальный объём поставки: по договорённости | |
Цена за штуку: согласно действующему прейскуранту | ||